工業(ye)用水(shui)與(yu)純(chun)水(shui)有(you)什麽區別(bie)？

工業(ye)用水(shui)與(yu)純(chun)水(shui)在(zai)定義、制(zhi)備工(gong)藝(yi)、水(shui)質標準及用(yong)途(tu)上(shang)存(cun)在(zai)顯(xian)著(zhu)差(cha)異(yi)，兩(liang)者的核(he)心區(qu)別(bie)主要體現(xian)在(zai)純(chun)度要求(qiu)、雜(za)質控制及適(shi)用(yong)場景(jing)上(shang)。以(yi)下是(shi)詳(xiang)細(xi)分析(xi)：　　

１．　定義與(yu)分類(lei)

•　工(gong)業(ye)用水(shui)　　

　　廣(guang)義上(shang)指工業(ye)生(sheng)產(chan)中使(shi)用(yong)的各類(lei)水(shui)源(yuan)，包括(kuo)冷(leng)卻(que)水(shui)、工(gong)藝用(yong)水(shui)、鍋(guo)爐補給水(shui)等，其水(shui)質要求(qiu)因用途(tu)而(er)異(yi)。例如，冷卻(que)水(shui)需控制硬度與懸浮物(wu)，鍋(guo)爐用水(shui)則需低(di)溶(rong)解(jie)氧(yang)和(he)低(di)鹽分(fen)以(yi)防腐(fu)蝕。水(shui)源(yuan)多為(wei)地(di)表(biao)水(shui)、地(di)下(xia)水(shui)或再生(sheng)水(shui)，僅(jin)需常(chang)規(gui)處(chu)理（如沈(chen)澱(dian)、過濾(lv)）即可(ke)滿(man)足需求(qiu)。　　

•　純(chun)水(shui)　　

　　通(tong)過深度凈化(hua)技術(shu)（如反(fan)滲透(tou)、離(li)子交換(huan)）去(qu)除(chu)絕(jue)大(da)部分(fen)雜(za)質的水(shui)，根據純(chun)度分為(wei)：　　

　　•　工(gong)業(ye)純(chun)水(shui)：電導(dao)率(lv)≤１μＳ／ｃｍ（電阻率(lv)≥１ＭΩ·ｃｍ），用(yong)於電子元(yuan)件清(qing)洗、化(hua)工(gong)循(xun)環(huan)水(shui)等。　　

　　•　超純(chun)水(shui)：電阻率(lv)≥１８ＭΩ·ｃｍ（電導(dao)率(lv)≤０．０５５６μＳ／ｃｍ），近(jin)乎無雜(za)質，適用於半(ban)導(dao)體制(zhi)造(zao)、高(gao)精(jing)度實驗(yan)。　　

２．　水(shui)質標準與雜(za)質控制

•　工業(ye)用水(shui)　　

　　以(yi)功能(neng)性(xing)指標為(wei)主，如冷卻(que)水(shui)需濁(zhuo)度≤５ＮＴＵ，鍋(guo)爐用水(shui)要(yao)求(qiu)總(zong)溶解固體（ＴＤＳ）＜５０ｍｇ／Ｌ。允(yun)許微(wei)量(liang)離(li)子和(he)有(you)機物(wu)存在(zai)，但(dan)需避(bi)免結(jie)垢或微(wei)生(sheng)物(wu)滋生(sheng)。　　

•　純(chun)水(shui)　　

　　核(he)心指標為(wei)電導(dao)率(lv)、總(zong)有(you)機碳(tan)（ＴＯＣ）及微(wei)粒(li)數(shu)。例如，電子級(ji)超純(chun)水(shui)要(yao)求(qiu)矽(gui)含(han)量(liang)≤２μｇ／Ｌ，細菌(jun)數(shu)≤０．０１個／ｍＬ。反(fan)滲透(tou)出水(shui)（如家用(yong)純(chun)凈(jing)水(shui)）電導(dao)率(lv)約(yue)５～５０μＳ／ｃｍ，遠(yuan)高於工(gong)業(ye)純(chun)水(shui)標準。　　

３．　制備工(gong)藝(yi)差(cha)異

•　工業(ye)用水(shui)處(chu)理　　

　　通(tong)常(chang)采(cai)用混凝沈(chen)澱(dian)、砂(sha)濾(lv)、消(xiao)毒等常規工藝(yi)，成本(ben)較低(di)。例如，再生(sheng)水(shui)用(yong)於工(gong)業(ye)時需去(qu)除(chu)氨氮（≤１ｍｇ／Ｌ）。　　

•　純(chun)水(shui)制(zhi)備　　

　　需多(duo)級(ji)純(chun)化(hua)：　　

　　•　反(fan)滲透(tou)（ＲＯ）：脫鹽率(lv)≥９５％，產(chan)出基(ji)礎純(chun)水(shui)。　　

　　•　超純(chun)水(shui)系(xi)統(tong)：結(jie)合ＲＯ、電去(qu)離(li)子（ＥＤＩ）、紫外殺(sha)菌(jun)等，半導(dao)體行業(ye)還(hai)需混床(chuang)拋光處(chu)理。　

４．　應用(yong)場(chang)景(jing)對比(bi)

•　工業(ye)用水(shui)　　

　　主要用於冷(leng)卻(que)（占(zhan)工(gong)業(ye)用水(shui)量(liang)６０％～７０％）、洗滌(di)等，對純(chun)度要求(qiu)寬(kuan)松。　　

•　純(chun)水(shui)　　

　　•　工(gong)業(ye)純(chun)水(shui)：電鍍、制藥(yao)配(pei)液。　　

　　•　超純(chun)水(shui)：集成(cheng)電路(lu)光刻、高靈(ling)敏(min)度實驗(yan)，其純(chun)度不足(zu)可(ke)能(neng)直接導(dao)致(zhi)產(chan)品報廢(fei)。　

５．　成本(ben)與環(huan)保(bao)考量

工業(ye)用水(shui)處(chu)理成(cheng)本(ben)較低(di)，而(er)純(chun)水(shui)（尤(you)其是(shi)超純(chun)水(shui)）因工藝(yi)復雜(za)、能耗高，成(cheng)本(ben)顯著(zhu)提(ti)升(sheng)。例如，蒸(zheng)餾(liu)法制備超純(chun)水(shui)能(neng)耗大(da)，僅(jin)適(shi)合小規(gui)模(mo)需求(qiu)。　　

總(zong)結(jie)

工業(ye)用水(shui)強(qiang)調“適用(yong)性”，純(chun)水(shui)追(zhui)求(qiu)“極致純(chun)度”。例如，反(fan)滲透(tou)出水(shui)雖(sui)稱(cheng)“純(chun)凈(jing)水(shui)”，但(dan)雜(za)質含(han)量(liang)仍(reng)比(bi)工業(ye)純(chun)水(shui)高(gao)上(shang)千倍(bei)。選擇時(shi)需平衡(heng)成(cheng)本(ben)與需求(qiu)，如電子行業(ye)必(bi)須使(shi)用(yong)超純(chun)水(shui)，而(er)普通冷卻(que)可(ke)接(jie)受常規工(gong)業(ye)用水(shui)。

                                工業(ye)廢水(shui)處(chu)理設(she)備，礦(kuang)井水(shui)處(chu)理設(she)備，煤(mei)礦汙(wu)水(shui)處(chu)理設(she)備，礦(kuang)井水(shui)處(chu)理工(gong)藝(yi)流(liu)程(cheng)，河(he)南(nan)瑞博環(huan)保(bao)科技有(you)限公(gong)司