西藏(zang)工業(ye)純水(shui)處理(li)設備

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"西藏(zang)自(zi)治(zhi)區(Xizang Autonomous Region) [93],簡(jian)稱(cheng)“藏”,是(shi)中國五個少數(shu)民(min)族(zu)自(zi)治(zhi)區之壹(yi),位於中華(hua)人(ren)民(min)共(gong)和國西(xi)南(nan)地(di)區,素有“世(shi)界屋(wu)脊(ji)”之稱(cheng)的青(qing)藏高(gao)原的西南(nan)部(bu),地(di)處北(bei)緯26°50′至(zhi)36°53′,東經(jing)78°25′至(zhi)99°06′之間(jian),平均海拔(ba)在(zai)4000米(mi)以(yi)上(shang)。面(mian)積(ji)120.28萬(wan)平方公裏(li),轄(xia)6個(ge)地(di)級(ji)市(shi)、1個地(di)區 ,首府(fu)拉(la)薩市(shi)。截至(zhi)2023年(nian)末(mo),西藏自(zi)治(zhi)區常住(zhu)人(ren)口(kou)為(wei)365萬(wan)人。

西(xi)藏(zang)是(shi)中國領土不(bu)可分割(ge)的(de)壹部分。自(zi)元朝(chao)始(shi),中央(yang)政(zheng)權始(shi)終對(dui)西藏(zang)行(xing)使著有(you)效(xiao)管(guan)轄(xia)。藏(zang)族(zu)人(ren)民(min)是(shi)中華(hua)民(min)族(zu)大(da)家庭(ting)中的(de)重要(yao)壹員。

西(xi)藏自(zi)治(zhi)區不(bu)僅(jin)有(you)世(shi)界屋(wu)脊(ji)奇異(yi)的(de)地(di)質地(di)貌和獨(du)特的(de)自(zi)然風光(guang),而且(qie)有別具壹(yi)格(ge)的(de)社會(hui)人(ren)文(wen)景(jing)觀,僅(jin)寺(si)廟在(zai)歷(li)史(shi)上(shang)最(zui)盛(sheng)時(shi)就(jiu)有(you)2700多座(zuo),還有(you)不(bu)少宮殿、園(yuan)林、城(cheng)堡(bao)、要(yao)塞(sai)、古墓(mu)、古(gu)碑等(deng)。

2023年(nian),西藏(zang)自(zi)治(zhi)區地(di)區生產總值(zhi)2392.67億(yi)元(yuan),按不(bu)變價計算(suan),比上(shang)年(nian)增長(chang)9.5%。 [86]2024年(nian)上(shang)半年(nian),西藏(zang)實(shi)現(xian)地(di)區生產總值(zhi)1189.45億(yi)元(yuan),按可比價計算(suan),同比增長6.1%。"

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西藏工(gong)業(ye)純水(shui)處理(li)設備

工(gong)業純水(shui)處理(li)設備是(shi)用(yong)於去(qu)除(chu)水(shui)中離子、有機物、微(wei)生物等(deng)雜質(zhi),制(zhi)備高(gao)純度水(shui)的(de)系(xi)統(tong),廣泛應(ying)用(yong)於電(dian)子(zi)、醫藥(yao)、化工(gong)、電(dian)力等(deng)行(xing)業(ye)。以下(xia)是(shi)工業(ye)純水(shui)處理(li)的(de)核(he)心(xin)設備、工(gong)藝流(liu)程及(ji)選型要點:

1.工業純水(shui)處理(li)設備預(yu)處理(li)系(xi)統(tong)

(去(qu)除(chu)懸浮(fu)物(wu)、膠體(ti)、余(yu)氯等(deng),保護後(hou)續設備)  

多介(jie)質(zhi)過(guo)濾(lv)器:填(tian)充(chong)石(shi)英砂(sha)、活性(xing)炭(tan)等(deng),去(qu)除(chu)顆粒物和(he)部分有(you)機物。  

活性(xing)炭(tan)過濾(lv)器:吸附余氯、色素、異(yi)味(wei),保護RO膜。  

軟化器(可選):通(tong)過離子交(jiao)換(huan)樹(shu)脂(zhi)去(qu)除(chu)鈣鎂離子,防(fang)止結(jie)垢(gou)。  

精(jing)密過濾(lv)器(5μm保安過(guo)濾(lv)器):攔截(jie)細(xi)小(xiao)顆粒,確保進(jin)入(ru)RO膜的(de)水(shui)質(zhi)。

2.工業(ye)純水(shui)處理(li)設備核(he)心(xin)脫鹽(yan)設備(1)反滲透(RO)系(xi)統(tong)

核(he)心(xin)設備:高(gao)壓泵(beng)、RO膜(卷(juan)式(shi)/中空(kong)纖(xian)維(wei))、膜殼(ke)、控(kong)制(zhi)系(xi)統(tong)。  

功(gong)能(neng):去除(chu)99%以上(shang)的(de)溶解鹽(yan)、有機(ji)物、微(wei)生物,產水(shui)電(dian)導率(lv)通(tong)常<10μS/cm。  

關(guan)鍵參(can)數(shu):回收(shou)率(lv)(75%～80%)、脫鹽(yan)率(≥98%)、操(cao)作(zuo)壓(ya)力(1～1.5MPa)。  

(2) 離子交(jiao)換(huan)(IX)系(xi)統(tong)(可選)  

混床離子交(jiao)換(huan)器:填(tian)充(chong)陰(yin)陽(yang)樹(shu)脂,進(jin)壹(yi)步去(qu)除(chu)離子,產水(shui)電(dian)阻(zu)率可達10～18.2 MΩ·cm(超(chao)純水(shui))。  

EDI(電(dian)去(qu)離子):  

設備組成:EDI模(mo)塊、直(zhi)流(liu)電(dian)源、流(liu)量計(ji)。  

優(you)勢(shi):無(wu)需酸堿再生,連續產超(chao)純水(shui),適(shi)合(he)電(dian)子(zi)、醫藥(yao)行(xing)業(ye)。  

3.工業純水(shui)處理(li)設備後(hou)處理(li)系(xi)統(tong)(根(gen)據(ju)需求選配(pei))  

紫外線殺菌(jun)器(UV):滅殺(sha)水(shui)中微(wei)生物。  

終端(duan)精(jing)密過濾(lv)器(0.22μm):確保無(wu)菌(jun)水(shui)質(zhi)。  

氮封(feng)水(shui)箱:防(fang)止高(gao)純水(shui)接觸(chu)空氣後水(shui)質(zhi)下(xia)降。

4.工業(ye)純水(shui)處理(li)設備控(kong)制(zhi)系(xi)統(tong)與輔助設備

PLC/觸(chu)摸(mo)屏(ping)控(kong)制(zhi):監(jian)測電(dian)導率(lv)、pH、壓(ya)力等(deng)參(can)數(shu),自(zi)動啟(qi)停及(ji)報(bao)警。  

加(jia)藥(yao)裝(zhuang)置(zhi):  

阻(zu)垢(gou)劑(ji)(防(fang)止RO膜結(jie)垢(gou))。  

NaOH調(tiao)節pH(提(ti)高硼、矽去除(chu)率)。  

典型工藝流(liu)程 1. 普(pu)通(tong)純水(shui)(電(dian)阻(zu)率≤5MΩ·cm)

原水(shui) → 多介(jie)質(zhi)過(guo)濾(lv) → 活性(xing)炭(tan)過濾(lv) → 軟化 → RO → 純水(shui)箱  

2. 超(chao)純水(shui)(電(dian)阻(zu)率≥18MΩ·cm)

原水(shui) → 預(yu)處理(li) → RO → EDI/混(hun)床(chuang) → UV殺菌(jun) → 終端(duan)過濾(lv) → 超(chao)純水(shui)  

西(xi)藏(zang)工(gong)業純水(shui)處理(li)設備關(guan)鍵選型因素

1.水(shui)質(zhi)要(yao)求:  

電(dian)子(zi)行(xing)業(ye)(半導體(ti)、光(guang)伏(fu))需超(chao)純水(shui)(18.2 MΩ·cm)。  

醫藥(yao)行(xing)業(ye)需符合(he)藥(yao)典(dian)純化水(shui)標(biao)準(zhun)(WFI需多效蒸(zheng)餾(liu))。  

2. 水(shui)量需求:RO系(xi)統(tong)需匹配(pei)產水(shui)量(如(ru)1～100噸/小(xiao)時(shi))。  

3. 能(neng)耗(hao)與成本(ben):  

EDI比混床運行(xing)成本(ben)低,但投資高(gao)。  

高(gao)硬(ying)度(du)水(shui)源需軟化或(huo)加(jia)阻垢(gou)劑(ji)。  

4. 自(zi)動化程(cheng)度(du):全自(zi)動系(xi)統(tong)適(shi)合(he)24小(xiao)時(shi)連(lian)續(xu)生產。  

西藏工業純水(shui)處理(li)設備行(xing)業(ye)應用(yong)示例

電(dian)子(zi)行(xing)業(ye):RO+EDI+拋光混床(chuang),終端(duan)0.1μm過濾(lv)。  

制(zhi)藥(yao)行(xing)業(ye):RO+多效蒸(zheng)餾(liu)(WFI制(zhi)備)。  

鍋(guo)爐(lu)補(bu)給(gei)水(shui):RO+混(hun)床(chuang),控(kong)制(zhi)SiO₂和(he)TOC。  

維(wei)護要(yao)點

RO膜清(qing)洗:定(ding)期(qi)化學(xue)清(qing)洗(檸(ning)檬酸(suan)、NaOH)防(fang)汙堵(du)。  

樹(shu)脂再生:混床需酸堿再生(EDI無(wu)需)。  

數(shu)據(ju)監控(kong):實時(shi)跟(gen)蹤電(dian)導率(lv)、壓(ya)力變化。  

如(ru)需具體(ti)方案(an)設計,可提(ti)供原(yuan)水(shui)水(shui)質(zhi)報(bao)告(gao)(如(ru)TDS、COD、硬(ying)度(du)等(deng))及(ji)用(yong)水(shui)需求(水(shui)量、水(shui)質(zhi)標(biao)準(zhun))。

本(ben)文關(guan)鍵(jian)詞(ci):西藏工業純水(shui)處理(li)設備、工(gong)業純水(shui)處理(li)設備、工(gong)業純水(shui)處理(li)、工(gong)業(ye)純水(shui)處理(li)解(jie)決(jue)方案(an)